PVD処理の概要

PVD（Phycical Vapor Deposition) とは真空蒸着、スパッタリング、及びイオンプレーティングを含めた総称として呼ばれるものです。
PVD 処理とは金属材料にセラミックスの膜を生成させる加工技術です。

【主な目的】
耐摩耗性、耐熱性の向上とともに、耐食性、また装飾性を同時に改善することを目的とした処理です
【主な用途】
切削工具、金型、自動車部品、医療機器など多岐にわたり利用されています。

 

主なPVD コーティングの種類

TiCNについて

三洋電子のPVD処理では、より高硬度・低摩擦係数に耐えるため、 一般的なTiCN皮膜とは異なり、下地のTiNから最表面のTiCNへ徐々に変化させる8層にもなる傾斜組成層の皮膜を生成します。 これにより鉄やステンレス加工の耐焼き付き性及び耐摩耗性で優れた効果をもらたします。 精密重プレス型、精密冷間鍛造型に最適です。