

PVD(Phycical Vapor Deposition) とは真空蒸着、スパッタリング、及びイオンプレーティングを含めた総称として呼ばれるものです。
PVD 処理とは金属材料にセラミックスの膜を生成させる加工技術です。
【主な目的】
耐摩耗性、耐熱性の向上とともに、耐食性、また装飾性を同時に改善することを目的とした処理です
【主な用途】
切削工具、金型、自動車部品、医療機器など多岐にわたり利用されています。



| TiN | 窒化チタン。チタン系のスタンダードなコーティング薄膜です。硬さ・密着性・耐熱性のバランスに優れています。 |
| TiCN | 炭窒化チタン。超硬切削工具などに適しています。高硬度と低摩擦が特徴です。 |
| TiAlN | 窒化チタンアルミ。金型、機械部品などに適しています。高硬度と耐熱性が特徴です。 |
三洋電子のPVD処理では、より高硬度・低摩擦係数に耐えるため、 一般的なTiCN皮膜とは異なり、下地のTiNから最表面のTiCNへ徐々に変化させる8層にもなる傾斜組成層の皮膜を生成します。 これにより鉄やステンレス加工の耐焼き付き性及び耐摩耗性で優れた効果をもらたします。 精密重プレス型、精密冷間鍛造型に最適です。

A.弊社から協力会社に依頼するかたちになります。
PVDに種類がありますので、ご希望の処理方法を添えてご注文ください。
A.TiNコーティング、TiC処理、TiCN/CrN/TiAlN/DLC/S-AH/S-AXがあり、硬度が異なります。
A.どの種類も2~5μmほどになります。
A.種類にもよりますが、1w~2w程度です。
A.金額は1チャージでの算出となりますので、1個の場合単価は高くなります。
A.PVD処理をする際に高温で処理をするため、高周波後にPVD処理をすると鈍ってしまいます。また、寸法変化のリスクもありますのであまりおすすめしておりません。真空焼入れの材質にて、真空焼入れからPVD処理の場合はPVD処理以上の高温で戻して寸法変化を最小限にとどめるよう調整いたします。真空焼入れに対応する材質等ご検討ください。